行业产品

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郑州科佳电炉有限公司


  • 高温化学气相沉积系统

    详细摘要: 产品介绍:该高温化学气相沉积系统的工作温度为300℃至1600℃,配备真空泵,气体混合装置

    产品型号:PT-CVD-1700-60*300-F3所在地:更新时间:2023-02-18 在线留言

  • 1200双温区触摸屏CVD系统

    详细摘要: 简介:KJ-T1200CVD是一种管式炉,配备60mm直径氧化铝管、真空泵和四通道质量流量计+一个浮子流量计气体流动系统

    产品型号:KJ-T1200所在地:更新时间:2023-02-18 在线留言

  • 1200℃PECVD系统

    详细摘要: 产品介绍:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜

    产品型号:KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • 卷对卷PECVD设备

    详细摘要: 产品介绍:卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备(PECVD),并加装了收放卷装置

    产品型号:KJ-T1200-JCY所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • 1600 CVD 系统

    详细摘要: 产品介绍:KJ-CVD是一种分体式管式炉,配备60mm直径的石英管、真空泵和四通道质量流量计气体流动系统

    产品型号:KJ-T1600 CVD所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • PECVD系统

    详细摘要: 产品介绍:该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成,适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS...

    产品型号:KJ-T1200-PE所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • 1200度CVD设备

    详细摘要: 产品介绍:KJ-T1200CVD是一种管式炉,配备100mm直径石英管、真空泵和五通道质量流量计气体流动系统

    产品型号:KJ-T1200-S440所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • 混气PECVD设备

    详细摘要: 产品描述:KJ-T1200PECVD是一种PECVD(等离子体增强化学气相沉积)的管式炉系统,它由500W射频电源、带有200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空...

    产品型号:KJ-T1200 PECVD所在地:更新时间:2022-09-02 在线留言

  • 等离子体增强化学气相沉积系统

    详细摘要: 产品介绍:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术

    产品型号:KJ-PECVD-D1所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 双炉体CVD设备

    详细摘要: 产品介绍:该双炉体CVD系统为定制款,适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验

    产品型号:KJ-T1200-W2所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 三温区CVD设备

    详细摘要: 产品特点:1、控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单

    产品型号:KJ-OTF-1700-F5所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 3通道CVD设备

    详细摘要: 简单介绍:KJ-T1600CVD是一种管式炉,具有80mm直径的氧化铝管和三通道质量流量计气体流动系统

    产品型号:KJ-T1600 -3M所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 石墨烯生长炉PECVD设备

    详细摘要: 产品介绍:KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成

    产品型号:KJ-T1200-S60LC-H2所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 1200度三温区CVD管式炉

    详细摘要: 产品介绍:KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式炉由KJ-T1200管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三...

    产品型号:KJ-1200T-S60LK3-3FZ所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 1200℃高温真空CVD设备

    详细摘要: 产品介绍:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成

    产品型号:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 混气管式PECVD系统

    详细摘要: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统,由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成

    产品型号:KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 1200℃石墨烯生长炉

    详细摘要: 产品介绍:KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生长炉由KJ-1200T管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成,温度可以达到1200度,可以是单...

    产品型号:KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 四路高温真空CVD设备

    详细摘要: 产品介绍:KJ-T1200-S60K-4C型四路高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成,温度可以达到1200度,极限真...

    产品型号:KJ-T1200-S60K-4C所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 箱式化学气相沉积系统

    详细摘要: 产品介绍:液压钟罩气氛炉采用炉体和智能控制一体化设计,整个炉体美观、大方

    产品型号:KJ-M1200(1400/1700)-Z所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

  • 旋转PECVD系统

    详细摘要: 产品用途:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜

    产品型号:KJ-T1200-S80-DZPECVD-R所在地:更新时间:2022-09-01 在线留言

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